
Powłoka PVD, znana również jako powlekanie PVD, to obróbka powierzchniowa (coat = płaszcz), która może być stosowana na powierzchniach różnych produktów. Głównym celem jest zwiększenie odporności i wydłużenie trwałości produktu. Skrót PVD pochodzi z angielskiego terminu Physical Vapor Deposition. W języku czeskim używa się określenia Fizyczna Depozycja z Fazie Gazowej.

W uproszczeniu jest to proces nakładania materiału powierzchniowego w bardzo cienkiej warstwie. Istnieje kilka metod przeprowadzania PVD. Odparowanie w próżni w temperaturach od 150 °C do 500 °C w specjalnej komorze jonowej. Uwolnione cząsteczki materiału do PVD są jonizowane i reagują z atmosferą wewnątrz komory, składającą się z gazu obojętnego (zazwyczaj Argonu) i gazu reaktywnego (zazwyczaj Azotu). Następnie osadzają się na powierzchni obrabianego przedmiotu, tworząc cienką, ciągłą i wysoko przylegającą powłokę. Do innych technologicznych procesów z tym samym osiągniętym wynikiem zalicza się natryskiwanie, depozycję wiązką elektronową i impulsową depozycję laserową. Aby osiągnąć równomierną grubość warstwy, obrabiane przedmioty obracają się z równomierną prędkością wokół kilku osi.
Do najczęściej używanych powłok PVD należy powłoka tytanowa – TiN. Istnieje również kilka innych komercyjnie używanych wariantów TiN, które zostały opracowane w ostatnich dziesięciu latach. Są to Tytanowy węglik azotowy – TiN z węglem, TiCN, dalej Tytanowy aluminiowy azotek – TiN z aluminium, TiAlN lub AlTiN oraz kombinacje aluminium i węgla. Do innych powszechnie stosowanych obróbek powierzchniowych PVD należy powłoka CrN (na bazie azotku chromu), powłoka ZrN (na bazie azotku cyrkonu) lub powłoka Alpha™ – TiN + ZrN.

Zaletą obróbek powierzchniowych PVD jest znaczne poprawienie właściwości obrabianego produktu, takich jak niskie tarcie, wysoka twardość, odporność na ścieranie oraz na wysoką temperaturę, odporność na korozję oraz na kwasy.
